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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備。本機特別之處是在一個真空室內(nèi)安裝了三個靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗
VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現(xiàn)往復(fù)運動，由調(diào)頻電機控制，自動同步運行，且往復(fù)位置和運動速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實現(xiàn)原點復(fù)位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
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